晶圆/芯片 制造工艺相关产品

3D TSV实装和FanOut作为下一世代的半导体封装工艺被广泛关注。积水化学拥有多种与先进封装生产制程中的材料,为提供的新工艺开发提供帮助。

晶圆级和芯片级封装中所使用的后制程材料

研磨布固定用双面胶带

研磨布固定胶带用于半导体前制程的研磨工艺上

SELFA

是一款通过UV照射可以产生气体,从而产生易剥离效果的UV胶带。通过高耐热性的单面膜HS系列,高耐热性的临时键合材料HW系列,高耐酸碱药液性的MP系列,帮助客户拓展新的工艺流程

Micropearl SOL

树脂核心焊球可以给封装提供高可靠性。树脂核心可以起到缓和内部应力,并控制精确的间距。

  • ダイシングテープラミネーション

    切割胶带
    贴膜

  • UV照射

    UV照射

  • 保護フィルム剥離

    保护膜剥离

  • ダイシング

    切割

  • ダイシングテープ剥離

    切割胶带
    剥离

晶圆/芯片制造工艺相关产品一览

产品
分类
产品名 特征
微粒子 低复原率柔软均一树脂粒子
【Micropearl EZ】
由于该产品相对柔软,可以吸收周围的噪音震动,减少对基板的损害。也由于该粒子较低的复原率,可用于控制柔软材质的基材的厚度。 产品情报
微粒子/实装材料 树脂球心镀焊锡球体
【Micropearl SOL】
封装用的焊接球体,具有弹性,大小均匀的树脂芯,高连接可靠度,无下陷,窄间距,可対应大尺寸PKG。 产品情报
UV剥离胶带 耐热,高附着力,易剥离的UV胶带,用于半导体工艺
【SELFA HS】
结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。 产品情报
UV剥离胶带 高耐热,高粘附力,易剥离的双面UV胶带,用于临时键合工艺
【SELFA HW】
结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時,保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。 产品情报
UV剥离胶带 UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺
【SELFA-MP】
具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶;透过UV照射产生气体,剥離時可减少對设备的损伤。 产品情报
胶带 液晶玻璃基板・CMP・HD基板
【研磨布固定用双面胶带】
具有高耐化学性的胶带,剥离后不会有粘合剂残留。用于在电子设备的抛光过程中固定研磨布。最大宽度2450毫米,适用于CMP工艺应用。 产品情报