고접착/이박리(易剥離)UV 테이프
SELFA Series

SELFA Series란

SELFA는 높은 접착력을 가지면서도 간단하게 박리 가능한 UV release tape 입니다. UV 조사를 통해 테이프와 피착체간에 가스가 발생, 밀착력을 "0"으로 하여 간단하게 벗겨낼 수 있어, 얇게 연마된 웨이퍼 등도 데미지 없이 가공할 수 있습니다. 내열성이 뛰어난 단면 HS, 내열TBDB HW, 내약품성에 뛰어난 MP등 폭넓은 라인업으로 최적의 제품을 제안 드립니다.

SELFAイメージ

SELFA Series 특징

내열성과 박리기술을 이용한 새로운 반도체 공정의 실현

Reflow 등 새로운 공정에 적용

セルファシリーズ

초박형 디바이스에
적용

폭넓은Process window

耐熱性

가스 발생을 이용한 데미지 없는 박리

SELFAシリーズの特長イメージ
軽剥離,低残渣

열공정 후에도 Residue less를 실현

一般UVテープ
일반 UV tape
SELFA
SELFA
일반 UV tape SELFA
내열성 ×(150도 이하) 220℃ @ 2hr + Reflow
잔사 × Residue less

단면 내열 SELFA HS Series

각종 패키지 제조 시 리플로우 등 열공정 시 디바이스 보호

SELFA HS

특징

  • 뛰어난 내열성, 내약품성
  • 강점착 + Low Residue 양립 실현

사용 예

SELFA HS 使用例
SELFA HS 使用例

제품 사양

품명 타입 고내열 박리 방법 기재 종류 디바이스측
점착종류
지지체측
점착종류
UV파장
(nm)
UV조사량
(mj/cm2)
용도 예
HS 단면 Peel 내열 필름 UV경화 점착제 - 405 3000 Reflow

양면 내열 SELFA HW Series

테이프 방식의 글래스 서포트 시스템을 실현하여, 생산성 향상에 공헌

SELFA HW

특징

  • 테이프 방식의 글래스 서포트를 이용하여 핸들링성 향상
  • 가스 발생을 이용한 데미지 없는 박리
  • 뛰어난 내열성, 내약품성

사용 예:센서(CIS, 지문 인식 등) 웨이퍼 휨(warpage) 방지

SELFA HW 使用例
SELFA HW 使用例
SELFA HW 使用例
SELFA HW 使用例

제품 사양

품명 타입 고내열 박리 방법 기재 종류 디바이스측
점착종류
지지체측
점착종류
UV파장
(nm)
UV조사량
(mj/cm2)
용도 예
HW 양면 Peel
가스 박리
내열 필름 UV경화 점착제 가스 발생 405
254
3000
12000
글래스 서포트

테스트 결과

BG 테스트

테스트 조건 결과
웨이퍼 두께
700μm ⇒ 50~30μm

엣지 부분

BGテスト結果

내약품성 테스트

글래스 + 양면 SELFA + 웨이퍼를 붙인 후 3시간 동안 Dipping 테스트 실시

Acid
(SC2:HCl+H2O2+H20):3시간
Base
(2.38% TMAH):3시간
Pre-UV
없음
Acid Pre-UV無し イメージ

엣지 delamination

Acid Pre-UV無し イメージ2
Base Pre-UV無し イメージ

엣지 delamination

Base Pre-UV無し イメージ2
Pre-UV
있음
Acid Pre-UV有り イメージ

엣지 OK

Acid Pre-UV有り イメージ2
Base Pre-UV有り イメージ

엣지 OK

Base Pre-UV有り イメージ2

내열성 테스트

a)
220℃×2시간
b)
260℃ Reflow
조건

Hot plate

耐熱性テスト ホットプレート 耐熱性テスト 220℃×2時間グラフ
耐熱性テスト 260℃リフローグラフ
글래스 + 양면 SELFA + 웨이퍼를 붙인 후,
내열성 테스트 실시
220℃×2時間 実施後

변화 없음 : 2시간 OK

260℃リフロー 実施後

변화 없음 : 3회 OK

UBM 도금 보호용 자가 박리 테이프 SELFA-MP

도금 공정 시의 배면 보호용 테이프입니다. UV 조사를 통한 가스 발포를 이용하여 피착체로부터 간단하게 박리됩니다.

SELFA MP

특징

  • UV 자가 박리 기능을 이용하여 도금 후에도 간단하게 박리할 수 있습니다.
SELFA MP 特長

용도

UBM 도금 공정 시의 웨이퍼 배면 보호

SELFA MP 用途
SELFA MP 用途

용도 예시

  • UBM 도금 공정에 적용
  • 전처리 (알칼리 용액···PH9)
  • 후처리 (강산, 강알칼리)
  • 금속 도금 처리 (Ni,Au 등)

특성

일반 물성

항목 단위
테이프 두께 기재 25μm
점착제 30μm
항목 단위 SUS 실리콘 웨이퍼 금 도금
점착력 초기 N/25mm 15.5 14.1 10.5
UV 조사 후 N/25mm 0 0 0
  • 접착력 : 180° Peel 300mm/min  UV조사:3000mJ/cm2

웨이퍼/칩 제조 프로세스 관련 제품 일람

제품
카테고리
제품명 특징
UV 박리 테이프 반도체 프로세스용 내열 고접착 & 이박리(易剥離)UV 테이프
【SELFA HS】
반도체 프로세스 내성 및 저(低)잔사 특성을 양립한 UV 박리 테이프. 각종 PKG 제조 프로세스에서 디바이스 표면의 보호와 Warpage의 억제가 가능.
UV 박리 테이프 웨이퍼 서포트 시스템용 양면 내열 강점착 & 이박리(易剥離)UV 테이프
【SELFA HW】
반도체 프로세스 내성 및 저(低)잔사 특성을 양립한 UV 박리 테이프. Glass 서포트 방식에서 고평탄 및 안전한 디바이스 핸들링이 가능.
UV 박리 테이프 도금 공정 시 배면 보호용 자기 박리 UV 테이프
【SELFA MP】
고내약품성 및 저(低)잔사 특성을 양립한 UV 박리 테이프. UV 조사에 의해 가스가 발생함으로써 디바이스의 데미지를 경감시키며 박리가 가능.