熱壓製程用離型膜
(低排氣離型膜)
積水化學的熱壓製程用離型膜是什麼?
由特殊聚酯(Polyester)和聚烯烴緩衝層(Polyolefin Cushion)組成的多層結構, 可廣泛用於熱壓製程中的表面保護和緩衝用途。


離型膜的多層結構

- 特殊聚酯層
-
功能
能夠耐受廣泛溫度範圍內的熱壓加工,並且在壓合後能夠
輕鬆且乾淨地從被著體上剝離。 -
材質
減少壓合時產生的排氣,不會污染被著體。
- 聚烯烴緩衝層(Polyolefin Cushion)
-
功能
使其能夠根據被著體的形狀進行變形並且輕易追隨。
離型膜結構可根據用途進行客製。
歡迎隨時諮詢。
特點
-
高溫壓合時保護被著體
耐熱性
耐熱,耐高溫(可在約50~200℃的高溫下使用)。
-
密著性不足
柔軟性
(形狀追隨性)不會皺摺,可以柔軟追隨。
-
壓合後也可使
被著體保持潔淨。表面保護/
潔淨性低排氣、低轉印,可保護被著體表面不受污染。
不含矽(Silicon)及各項PFAS限制材料。 -
壓合後無法乾淨地從
被著體上剝離。離型性
使用後可輕鬆剝離。
檢驗耐熱性和柔軟性
概要
- 檢驗方法:真空成型實驗
- 條件:200℃, 20秒
結果
SEKISUI品
能夠柔軟地追隨被著體形狀且不會發生皺摺。
汎用PET離型膜
柔軟性不足導致無法追隨被著體形狀而發生皺摺。
檢驗潔淨性(低轉印)
概要
- 檢驗方法:熱壓後測量水接觸角
結果
積水化學的離型膜設計為低排氣,熱壓後低污染。
壓合前


SEKISUI品

變化小=污染量小
汎用PMP※離型膜

變化大=污染量大
撥水性物質轉印
- PMP:聚甲基戊烯(Polymethylpentene)
與通用離型膜的比較
積水化學的離型膜和各種通用離型膜相比,更能夠解決權衡取捨的問題。
離型膜的種類 | ||||||
---|---|---|---|---|---|---|
SEKISUI品 | 矽塗層PET膜 | PE膜 | PMP※1膜 | ETFE※2膜 | ||
一般特性 | 耐熱性 | ○ | × | ○ | ○ | |
柔軟性(形狀追隨性) | × | ○ | × | ○ | ||
潔淨性(低排氣、低轉印) | × | ○ | × | ○ | ||
離型性 | ○ | ○ | ○ | ○ | ||
不含PFAS | ○ | ○ | ○ | × | ||
不含矽 | × | ○ | ○ | ○ |
- PMP:聚甲基戊烯(Polymethylpentene)
- ETFE:乙烯/四氟乙烯共聚物
積水化學的離型膜兼具耐熱性、
柔軟性和非污染性,
能幫助解決客戶的問題。
用途例
1基板製造時的熱壓製程表面保護用途
- 軟性印刷電路板(FPC)製造時的表面保護用途
- 軟硬結合基板製造時的表面保護用途

具體例子:FPC製造時的表面保護
- 覆蓋膜和銅箔積層板(CCL)的熱壓製程
- 補強材料壓合製程等
斷面放大圖
2耐熱保護和緩衝用途
- 半導體模料成型用途
- CFRP製造用途
- 晶片-ACF壓合時的熱和壓力緩衝用途
- 其他熱壓加工的保護和緩衝用途

具體例子:在晶片與 ACF壓合時的熱壓過程中發揮緩衝作用(抑制熱不均與壓力不均)
- 次世代顯示器製造時的ACF壓合
無離型膜

導入離型膜時

作為對熱和壓力具有緩衝作用的薄膜
3其他
- 也可作為耐熱柔性基材使用
其他用途可根據需求客制

代表性物性列表
可根據客戶需求定制物性值
E類型 | A類型 | J類型 | |||
---|---|---|---|---|---|
特點 | 高追隨性 | 柔軟且易延展 | 較硬且不易起皺 | ||
平均厚度 | 100 µm | 190 µm | 110 µm | 120 µm | 120 µm |
熔點 | 223℃ | 223℃ | 223℃ | 223℃ | 223℃ |
23℃拉伸強韌度 MD方向 | 21 MPa | 20 MPa | 17 MPa | 30 MPa | 36 MPa |
23℃拉伸強韌度 TD方向 | 18 MPa | 15 MPa | 15 MPa | 25 MPa | 28 MPa |
80℃尺寸變化率 MD方向 | -0.5% | -0.4% | -0.5% | -0.3% | -0.3% |
80℃尺寸變化率 TD方向 | -0.3% | -0.3% | -0.0% | -0.1% | -0.1% |
耐熱性 | ★ | ★ | ★ | ★★ | ★★★ |
柔軟性(形狀追隨性) | ★★ | ★★ | ★ | ★ | ★ |
潔淨度 | ★★ | ★★ | ★★ | ★★ | ★★ |
離型性 | ★★ | ★★ | ★★ | ★★ | ★ |
捲材尺寸 | 寬50-140mm×長度~1000m(可依產品需求調整) |
- 上述物性數據為代表性產品的參考值,非保證值。
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